Кварцевые пластины с отверстиями, обработанные прецизионным способом, марок JGS1/JGS2/JGS3 для полупроводниковых применений. Имеет чистоту SiO₂ 99,99%, рабочую температуру 1100 ℃ и индивидуальные услуги по штамповке/резке. Доступен в прозрачном кварце с бесплатными образцами и низким минимальным объемом заказа.
Высокотемпературная трубка из кварцевого стекла с чистотой SiO₂ 99,99%, рабочая температура до 1100 ℃, диапазон внешнего диаметра 10–10 000 мм. Идеально подходит для полупроводниковых, лабораторных и промышленных печей. Доступна резка/перфорация на заказ с бесплатными образцами.
High Temperature Resistant Clear Quartz Glass Tube No Bubbles Fused Silica Pipe for Semiconductor Diffusion Furnace Product Characteristics SiO₂ Content 99.9% Density 2.2 g/cm³ Hardness (Moh's Scale) 6.6 Melting Point 1732℃ Working Temperature 1100℃ Max Short-term Temperature 1450℃ Visible Light ...
Пластина из прозрачного кварцевого стекла, устойчивая к высоким температурам, с содержанием SiO₂ 99,99%, температура плавления 1732 ℃, рабочая температура 1100 ℃. Индивидуальная обработка штамповки/резки, доступны бесплатные образцы. Идеально подходит для полупроводниковых приложений.
Трубка из плавленого кварца большого диаметра с чистотой SiO₂ 99,99%, рабочая температура до 1100 ℃. Нестандартные размеры от 10 до 10 000 мм наружного диаметра для полупроводников, высокотемпературных печей и лабораторных применений. Доступны бесплатные образцы.
Трубка из плавленого кварцевого стекла высокой чистоты с содержанием SiO₂ 99,99%, рабочая температура до 1100 ℃ и температура плавления 1732 ℃. Отличается коррозионной стойкостью, прозрачностью и фланцевыми соединениями для применения в полупроводниковых и высокотемпературных печах. Доступны бесплатные образцы.