Type | Clear Quartz Plate |
---|---|
Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Bending, Welding, Punching, Cutting, polishing |
Тип | Прозрачная кварцевая пластина |
---|---|
Заявление | Полупроводниковый, оптический |
Толщина | 0,5-100 мм |
Форма | Площадь |
Служба обработки | Гибка, сварка, штамповка, резка |
Тип | Прозрачная кварцевая пластина |
---|---|
Применение | Полупроводниковый, оптический |
Толщина | 0,5-100 мм |
форма | квадрат |
Обработка обслуживания | Гибка, сварка, штамповка, резка, полировка |
Тип | Прозрачная кварцевая пластина |
---|---|
Применение | Полупроводниковый, оптический |
Толщина | 0,5-100 мм |
форма | квадрат |
Обработка обслуживания | Гибка, сварка, штамповка, резка, полировка |
Тип | Прозрачная кварцевая пластина |
---|---|
Применение | Полупроводниковый, оптический |
Толщина | 0.5-100mm |
Форма | Квадрат |
Обработка обслуживания | Гибка, сварка, штамповка, резка, полировка |
Материал | СиО2 |
---|---|
Плотность | 2.2г/км3 |
Твердость | Морсе 6,5 |
Работая температура | 1100℃ |
УЛЬТРАФИОЛЕТОВАЯ пропускаемость | 80% |
Материал | 99,99% |
---|---|
Светлая пропускаемость | 92% |
Плотность | 2.2г/км3 |
Работая Темпаратуре | 1100℃ |
Твердость | Морсе 6,5 |
материал | СИО2>99.999% |
---|---|
плотность | 2,2 (г/км3) |
Светлая пропускаемость | >92% |
Твердость | Морсе 6,5 |
Работая температура | 1100℃ |
Тип | Ясная плита кварца |
---|---|
Применение | Полупроводник, оптически |
Толщина | 0.5-100mm |
Форма | Квадрат |
Обработка обслуживания | Гнуть, сваривать, пробивая, вырезывание |
Тип | Ясная плита кварца |
---|---|
применение | Полупроводник, оптически |
Толщина | 0.5-100mm |
Форма | Квадрат |
Обработка обслуживания | Гнуть, сваривающ, пробивающ, резать, полируя |