| Ключевое слово | Стеклоизделие научной лаборатории |
|---|---|
| Имя | аппаратура кварца процесса стеклянной подгонянная лабораторией |
| Материал | сплавленный кремний |
| Рабочая температура | 1100℃ |
| Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика |
| Тип | Прозрачная кварцевая плита |
|---|---|
| Применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100 мм |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Удар, резка |
| Тип | Прозрачная кварцевая плита |
|---|---|
| Применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100 мм |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Удар, резка |
| Тип | Прозрачная кварцевая плита |
|---|---|
| Применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100 мм |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Удар, резка |
| Ключевое слово | Стеклоизделие научной лаборатории |
|---|---|
| Имя | аппаратура кварца процесса стеклянной подгонянная лабораторией |
| Материал | сплавленный кремний |
| Рабочая температура | 1100℃ |
| Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика |
| материал | сплавленный кремний |
|---|---|
| Работая температура | 1250℃ |
| Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика |
| Твердость | Морсе 6,5 |
| применение | Лабораторное исследование |
| имя | Диск стекла кварца |
|---|---|
| Светлая пропускаемость | >92% |
| плотность | 2.2г/км3 |
| Работая Темпаратуре | 1100℃ |
| Твердость | Морсе 6,5 |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Punching, Cutting |
| Тип | Прозрачная кварцевая плита |
|---|---|
| Применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100 мм |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Удар, резка |
| Тип | Прозрачная кварцевая плита |
|---|---|
| Применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100 мм |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Удар, резка |