| Название продукта | Подвергать механической обработке стекла точности |
|---|---|
| Материал | СиО2 |
| Твердость | Морсе 6,5 |
| Работая температура | 1200℃ |
| Качество поверхности | 20/40 или 40/60 |
| Название продукта | Подвергать механической обработке стекла точности |
|---|---|
| Материал | Sio2 |
| Твердость | Morse 6,5 |
| Работая температура | 1100℃ |
| Качество поверхности | 20/40 или 40/60 |
| Название продукта | Подвергать механической обработке стекла точности |
|---|---|
| Материал | Сио2 |
| Твердость | Морзе 6,5 |
| Работая температура | 1100 ℃ |
| Качество поверхности | 20/40 или 40/60 |
| Ключевое слово | Стеклоизделие научной лаборатории |
|---|---|
| Имя | аппаратура кварца процесса стеклянной подгонянная лабораторией |
| Материал | сплавленный кремний |
| Рабочая температура | 1100℃ |
| Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика |
| Название продукта | Подвергать механической обработке стекла точности |
|---|---|
| Материал | SiO2 |
| Твердость | morse 6,5 |
| Работая температура | 1100℃ |
| Качество поверхности | 20/40 или 40/60 |
| материал | сплавленный кремний |
|---|---|
| Работая температура | 1250℃ |
| Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика |
| Твердость | Морсе 6,5 |
| применение | Лабораторное исследование |
| Название продукта | Подвергать механической обработке стекла точности |
|---|---|
| Материал | SIO2 |
| Твердость | morse 6,5 |
| Работая температура | 1100℃ |
| Качество поверхности | 20/40 или 40/60 |
| Тип | Прозрачная кварцевая пластина |
|---|---|
| Заявление | Полупроводниковый, оптический |
| Толщина | 0,5-100 мм |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Гибка, сварка, штамповка, резка |
| Тип | Прозрачная кварцевая плита |
|---|---|
| Применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100 мм |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Сгибание, сварка, ударение, полировка |
| Type | Clear Quartz Plate |
|---|---|
| Application | Semiconductor, optical |
| Thickness | 0.5-100mm |
| Shape | Square |
| Processing Service | Bending, Welding, Punching, polishing |
