Название продукта | Бутыль с реактивом с завинчивой пробкой |
---|---|
Материал | SIO2>99.9% |
Плотность | 2.2g/cm3 |
Работая температура | 1100℃ |
Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика, 150 раз чем нержавеющая сталь |
Название продукта | Бутыль с реактивом лаборатории |
---|---|
Материал | SIO2>99.9% |
Плотность | 2.2g/cm3 |
Работая температура | 1100℃ |
Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика, 150 раз чем нержавеющая сталь |
Type | Clear Quartz Plate |
---|---|
Application | Semiconductor, optical |
Thickness | 0.5-100mm |
Shape | Square |
Processing Service | Punching, Cutting |
Тип | носители кварцевых пластин |
---|---|
Применение | Полупроводник, оптически |
Толщина | 0.5-100 мм |
Форма | Площадь |
Служба обработки | Сгибание, сварка, ударение, полировка |
Материал | 99,99% |
---|---|
Светлая пропускаемость | 92% |
Плотность | 2.2г/км3 |
Работая Темпаратуре | 1100℃ |
Твердость | Морсе 6,5 |
Название продукта | Стеклянная пластинка кварца |
---|---|
Материал | SIO2>99.999% |
Плотность | 2,2 (g/cm3) |
Светлая пропускаемость | >92% |
Твердость | morse 6,5 |
Тип | Прозрачная кварцевая плита |
---|---|
Применение | Полупроводник, оптически |
Толщина | 0.5-100 мм |
Форма | Площадь |
Служба обработки | Удар, резка |
Тип | Прозрачная кварцевая плита |
---|---|
Применение | Полупроводник, оптически |
Толщина | 0.5-100 мм |
Форма | Площадь |
Служба обработки | Удар, резка |
Тип | Прозрачная кварцевая плита |
---|---|
Применение | Полупроводник, оптически |
Толщина | 0.5-100 мм |
Форма | Площадь |
Служба обработки | Удар, резка |
Материал | СиО2 |
---|---|
Работая Темпаратуре | 1200℃ |
Пункт Мельт | 1850℃ |
форма | Квадрат/круглое/любая форма |
Толщина | 1мм-50мм |