| Ключевое слово | Стеклоизделие научной лаборатории |
|---|---|
| Имя | аппаратура кварца процесса стеклянной подгонянная лабораторией |
| Материал | сплавленный кремний |
| Рабочая температура | 1100°С |
| Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика |
| Ключевое слово | Стеклоизделие научной лаборатории |
|---|---|
| Название | аппаратура кварца процесса стеклянной подгонянная лабораторией |
| Материал | сплавленный кремний |
| Рабочая температура | 1100°С |
| Кисловочный допуск | 30 раз чем керамика |
| Материал | СИО2>99.999% |
|---|---|
| Плотность | 2,2 (г/км3) |
| Светлая пропускаемость | >92% |
| Твердость | Morse 6,5 |
| Работая температура | 1100℃ |
| Тип | Ясная плита кварца |
|---|---|
| Применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100mm |
| Форма | Квадрат |
| Обработка обслуживания | Гнуть, сваривать, пробивая, вырезывание |
| Тип | Прозрачная кварцевая плита |
|---|---|
| Применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100 мм |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Гнуть, сваривающ, пробивающ, резать, полируя |
| Тип | Ясная плита кварца |
|---|---|
| применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100mm |
| Форма | Квадрат |
| Обработка обслуживания | Гнуть, сваривающ, пробивающ, резать, полируя |
| Тип | Ясная плита кварца |
|---|---|
| применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100mm |
| Форма | Квадрат |
| Обработка обслуживания | Гнуть, сваривать, пробивая, вырезывание |
| Тип | Ясная плита кварца |
|---|---|
| применение | Полупроводник, оптически |
| Толщина | 0.5-100mm |
| Форма | Квадрат |
| Обработка обслуживания | Гнуть, сваривающ, пробивающ, резать, полируя |
| Тип | Ясная плита кварца |
|---|---|
| Заявление | Полупроводник, оптически |
| толщина | 0.5-100mm |
| Форма | Площадь |
| Служба обработки | Гнуть, сваривающ, пробивающ, резать, полируя |
| Наименование товара | Фланец трубки кварца |
|---|---|
| Материал | SiO2 |
| Плотность | 2.2g/cm3 |
| твердость | morse 6,5 |
| Рабочая температура | 1100℃ |